IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION

Informacje na temat projektu

Identyfikator umowy o grant: BRE20298

Projekt został zamknięty

Data rozpoczęcia 1 Stycznia 1993

Data zakończenia 31 Grudnia 1995

Finansowanie w ramach

• Specific programme (EEC) of research and technological development in the field of industrial and materials technologies, 1990-1994

Koszt całkowity

Brak danych

Wkład UE

€ 1 100 000,00

Koordynowany przez

Métaleurop Recherche SA
France

Inne dokumenty

• IMPROVED TARGET MATERIAL FOR HIGH-YIELD SPUTTERING DEPOSITION OF HIGH QUALITY ITO FILMS WITH LOW RESISTIVITY AND HIGH OPTICAL TRANSMISSION