Obiettivo
The objective of the project is twofold:
i) to develop and;
ii) to assess the potential for nanoimprint technology for the coming semiconductor fabrication requirements in the sub-10 nm domain. We intend to meet the objective by exploring NanoImprint Lithography (NIL) for making individual structures on the sub-10 nm level as well as explore the possibility for making imprint over large areas (up to 6'' wafers). We realize that for large areas we need to relax specifications and expand today's individual sub-100 nm level into the large area domain in order to reach results within a three-year perspective. However, the results obtained on the individual 10 nm level will then be transferable to the large area domain. A result we expect a nanofabrication technique with capabilities for mass production aiming towards the sub-10 nm domain, with a clear identification of its potential. Furthermore, nano-imprint technology will be an important contribution to ensure a strong competitive position for the EU in the key emerging technologies for information processing circuits.
OBJECTIVES
The objectives of the project are:
i) to develop and;
ii)to assess the potential for nanoimprint technology for the coming semiconductor fabrication requirements in the sub-10 nm domain.
This will be realized by exploring:
I) NIL for making individual structures on the sub-10 nm level as well as exploring;
II) the possibility for making imprint over large areas (up to 6'' wafers).
The impact of nanoimprint technology, if succesfully transferred to industry, would be huge. Application areas would include e.g. storage technologies (optical, magnetic etc), micro/nano-electronics and bio-sensor devices and would make strong impact onto every-day life.
DESCRIPTION OF WORK
Nanoimprint lithography (NIL) has the potential to revolutionize the production of nm-scale devices and integrated circuits. Future high volume data storage and high-speed data processing will require reliable large area patterning technologies for fabrication of nano-scaled structures. Present lithography for sub-100 nm structures (e-beam, X-ray, ion projection) suffers form severe drawbacks for volume production, limited throughput or expensive equipment using the same tools developed for the large area sub-100 nm NIL. This workprogramme is a direct continuation of the project NANOTECH.
It has combined aims of:
a) to explore the potential of nanoimprint and pattern transfer at the sub - 10 nm domain;
b) to address large area NIL;
c) to investigate mix&match technology;
d) to develop concepts for stamp replication;
e) to optimise NIL polymer materials;
f) to develop measures for quality control, and;
g) to investigate the influence of NIL-processing onto the substrates electrical and optical properties.
Campo scientifico (EuroSciVoc)
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.
- ingegneria e tecnologia ingegneria elettrica, ingegneria elettronica, ingegneria informatica ingegneria elettronica sensori biosensori
- scienze naturali scienze chimiche scienze dei polimeri
- scienze naturali scienze fisiche elettromagnetismo ed elettronica semiconduttività
- scienze naturali informatica e scienze dell'informazione scienza dei dati trattamento dei dati
- ingegneria e tecnologia nanotecnologia nanoelettronica
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Parole chiave
Parole chiave del progetto, indicate dal coordinatore del progetto. Da non confondere con la tassonomia EuroSciVoc (campo scientifico).
Parole chiave del progetto, indicate dal coordinatore del progetto. Da non confondere con la tassonomia EuroSciVoc (campo scientifico).
Programma(i)
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Programmi di finanziamento pluriennali che definiscono le priorità dell’UE in materia di ricerca e innovazione.
Argomento(i)
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.
Invito a presentare proposte
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Dati non disponibili
Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.
Meccanismo di finanziamento
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.
Coordinatore
221 00 LUND
Svezia
I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.