Maschinenhalle im Nanometerformat
Der Wissenschaft ist es gelungen, immer kleinere Speicherchips herzustellen und gleichzeitig deren Speicherkapazität immer weiter zu erhöhen. Doch Speicherchips sind nicht das Einzige, was ständig kleiner wird. Inzwischen versucht der Mensch, Geräte zu bauen, deren Abmessungen in der Größenordnung von Atomen liegen. Die Anwendungsgebiete sind zahlreich und umfassen beispielsweise den Computereinsatz, die Medizin, militärische Anwendungen oder die Biotechnologie. Allerdings erfordert der Bau von Komponenten im Submikron- oder Nanometerbereich extrem präzise Apparaturen und ist im Allgemeinen sehr kostspielig. Ständig werden neue, weniger kostenintensive Nanofabrikations-Techniken gesucht. Das Programm "Technologien für die Informationsgesellschaft" soll dabei helfen, Forscher aus ganz Europa zusammen zu führen, und fördert ihre Bemühungen um die Entdeckung neuer Techniken, die diese hohen Anforderungen erfüllen. Gegenstand des Projekts CHANIL war die spezielle Technik der Nano-Prägelithografie (Nano Imprint Lithography, NIL). Um die Nachteile zu umgehen, die mit traditionellen Werkstoffen wie Polymethylmethacrylat verbunden sind, benutzten die CHANIL-Forscher quervernetzte Polymere. Diese Innovation sichert eine exzellente thermische Stabilität und beste Trockenätzeigenschaften, kommt aber ohne hohe Prägetemperaturen aus und unterliegt daher auch nicht den damit verbundenen Problemen. Unter Verwendung sowohl thermisch als auch fotochemisch quervernetzter Polymere wurden neue Strukturen mit einer Auflösung bis herab zu 50 Nanometern erzeugt. Die neuen NIL-Resists erfreuten sich auf verschiedenen internationalen Konferenzen regen Interesses. Das deutsche KMU, die Micro Tesist Technology GmbH, hat bereits mit einer aggressiven Vermarktung der neuen Produkte begonnen. Diese Arbeit wird beitragen, dass Europa seine wettbewerbsfähige Position auf diesem aufstrebenden Markt verteidigen kann. Das Bild zeigt 100nm lines and spaces in fotochemisch quervernetztem Polymer.
