Un'officina per lavorazioni meccaniche su scala nanometrica
I progressi tecnologici hanno portato a chip sempre più piccoli e potenti. Ma i chip di memoria non sono i soli componenti a subire questo processo di trasformazione: sono in corso ricerche il cui obiettivo è la fabbricazione di dispositivi con dimensioni atomiche, in numerosi settori tra cui il settore informatico, medico, militare e biotecnologico. La costruzione di componenti di dimensioni nella scala dei submicron o dei nanometri richiede attrezzature di estrema precisione e in genere comporta costi molto elevati. Vengono perciò esplorate costantemente tecniche di nanofabbricazione più economiche. Il programma IST (Information Society Technologies) riunisce ricercatori da tutta l'Europa e ne finanzia le attività volte alla scoperta di nuove tecniche in grado di rispondere a queste esigenze critiche. Il progetto CHANIL si è focalizzato sulla tecnica della nanolitografia (NIL, NanoImprint Lithography). Per evitare i problemi che si verificano coni materiali tradizionali, come il polimetilmetacrilato, i ricercatori del progetto CHANIL hanno introdotto i polimeri reticolati, che comportano un'eccellente stabilità termica e mantengono le caratteristiche dell'incisione a secco, ma evitano le temperature elevate di stampaggio e i relativi problemi. Utilizzando polimeri reticolati termicamente e fotochimicamente sono state create nuove strutture con risoluzione ridottissima, sino a 50 nanometri. I nuovi resist NIL hanno destato attenzione nel corso di vari convegni internazionali. L'azienda tedesca SME micro resist technology GmbH sta commercializzando attivamente i nuovi prodotti. Questa innovazione aiuterà l'Europa a mantenere una posizione competitiva in questo mercato emergente. L'immagine mostra linee e spazi (lines and spaces) a 100nm sul polimero reticolato fotochimicamente.
