Wytrawianie plazmowe wchodzi w pełnoletniość
Wytrawianie plazmowe to proces produkcyjny polegający na wyładowaniach szybkich strumieni plazmy w celu wytworzenie zintegrowanych obwodów. W ramach finansowanego ze środków UE projektu "Wytrawianie plazmowe w celu uzyskania pożądanego nanokształu i nanotekstury: zaawansowane oprogramowanie reaktorowe i symulacyjne do kontroli plazmy w pętli zwrotnej" (Nanoplazma) zbadano nowe metody wytrawiania plazmowego. Nowa wielopoziomowa metoda uwzględniła eksperymenty pomiarowe i kontrolne, aby uzyskać wytrawianie plazmowe w nanoskali, w tym kontrolowaną nanoszorstkość i teksturę powierzchni. Koncentrując się na oprogramowaniu do diagnostyki plazmowej, symulacji plazmowej oraz modelowaniu powierzchni, w ramach projektu opracowano udoskonalone narzędzie do wytrawiania plazmowego, które usprawnia produkcję oraz kontrolę trudnych procesów wytrawiania w nanoskali. Projekt Nanoplazma potwierdził modele wytrawiania plazmowego poprzez kontrolę przepływu gazu oraz siłę plazmy w zakresie ścisłej kontroli szybkości i profilu wytrawiania. W ramach projektu opracowano nowy wytrawiacz plazmowy wyposażony w nowe źródło plazmy, funkcje automatycznego dopasowania częstotliwości radiowej (FM), zintegrowanej spektroskopii oraz kontroli w zamkniętej pętli, osiągając w ten sposób doskonałą precyzję. Poczyniono postępy w zakresie ograniczenia szorstkości oraz tworzenia fakturowanych słupków o grubości 50 nm. Ogólnie rzecz biorąc, w ramach projektu wyprodukowano prototypy nowego narzędzia do wytrawiania plazmowego oraz symulator wytrawiania. Opublikowano także 15 artykułów w pismach naukowych, jak również 50 publikacji akademickich podczas konferencji. Zgłoszono cztery wnioski patentowe w celu ochrony nowej technologii, po raz kolejny świadczącej o prymacie Europy w tego rodzaju technologiach. Rezultaty te umożliwią MŚP niezawodną produkcję nanourządzeń w małych partiach, a ostatecznie w większych ilościach, korzystając z najnowocześniejszej technologii oraz oszczędnego podejścia.
