Massenproduktion von Miniatursystemen
Unter Nanotechnologie versteht man die Herstellung funktioneller Systeme im Nanometermaßstab (Atome und Moleküle), die außergewöhnliche Eigenschaften besitzen. Diese Systeme in Massenproduktion herzustellen, war allerdings bislang schwierig. Voraussetzung für die Unterbringung funktioneller Systeme auf Nanosubstraten ist eine Nanostrukturierung. Dabei werden Moleküle, Atome oder Ionen auf Substratanaloga auf den Komponenten einer herkömmlichen Halbleiterplatte organisiert. Insbesondere die FIB-Behandlung (FIB: Fokussierter Ionenstrahl) eignet sich hervorragend, um komplexe dreidimensionale Oberflächenstrukturen zu generieren. Europäische Forscher entwickelten daher im Projekt CHARPAN (Charged particle nanotech) eine FIB-Produktionstechnologie für die kostengünstige Massenproduktion. Die wichtigste Innovation war die Entwicklung eines stark parallelen Multi-Beams. Dabei werden etwa 40.000 Ionenstrahlen gebündelt, mit denen über eine Schablone ein bestimmtes Material auf dem Substrat aufgebracht wird. Die Auflösung beträgt dabei weniger als 20 Nanometer. Die von CHARPAN entwickelte Technologie eignet sich hervorragend für komplexe Masken, Schablonen und Template zur Generierung von Nanostrukturen und für Anwendungen in der Nanophotonik, Nanomagnetik, Nanobiotechnologie und Energieumwandlung.
