Technologia na rzecz masowej produkcji urządzeń miniaturowych
Nanotechnologia lub inżynieria systemów funkcjonalnych na skalę nanometrów (rozmiar atomów i molekuł) udostępnia szereg niezwykłych właściwości i cech nowych materiałów. Jednak szybka i niezawodna niskonakładowa masowa produkcja systemów w nanoskali okazuje się trudnym przedsięwzięciem. W celu wyprodukowania funkcjonalnych systemów na substratach w skali nanometrycznej, technologie nanowzorcowania wykorzystywane są do organizowania molekuł, atomów lub jonów na substratach analogicznie do komponentów na konwencjonalnych obwodach drukowanych. Technologia skupionej wiązki jonowej (FIB) jest jedną z najbardziej obiecujących metod produkcji trójwymiarowych struktur powierzchniowych. Europejscy naukowcy zainicjowali projekt "Nanotechnologia cząsteczek naładowanych" (Charpan), by opracować technologię wytwarzania FIB na rzecz niskonakładowej masowej produkcji systemów w nanoskali. Główną innowacją było opracowanie urządzenia wielowiązkowego. Naukowcy skupili się na wygenerowaniu blisko 40 tys. małych wiązek jonowych, które wraz z maskami matrycy, przez które materiał deponowany jest na substracie, umożliwiłyby rozdzielanie wzorca nieprzekraczającego 20 nanometrów. Technologia Charpan ma wielkie potencjalne zastosowanie w produkcji złożonych masek, matryc i szablonów stosowanych we wzorcowaniu nanostruktur, jak również w nanofotonice, nanomagnetyce, nanobiotechnologii i konwersji energii.
