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10 Angstrom CMOS exploration

CORDIS proporciona enlaces a los documentos públicos y las publicaciones de los proyectos de los programas marco HORIZONTE.

Los enlaces a los documentos y las publicaciones de los proyectos del Séptimo Programa Marco, así como los enlaces a algunos tipos de resultados específicos, como conjuntos de datos y «software», se obtienen dinámicamente de OpenAIRE .

Publicaciones

OPC and modeling solution to support 0.55NA EUV stitching (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Qinglin Zeng, Dongbo Xu, Xuefeng Zeng, Werner Gillijns, Edita Tejnil, Yuyang Sun, Germain Fenger
Publicado en: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024, 2024
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3034957

OPC model accuracy of dry resist readiness for 0.55NA EUVL by using low-n bright field mask (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Dongbo Xu, Werner Gillijns, Shruti Jambaldinni, Soobin Hwang, Anuja De Silva, Germain Fenger
Publicado en: DTCO and Computational Patterning IV, 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051855

High-NA EUV single patterning of advanced metal logic nodes: inverse lithography techniques in combination with alternative mask absorbers (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Ana-Maria Armeanu, Nick Pellens, Vicky Philipsen, Evgeny Malankin, Dongbo Xu, Keisuke Mizuuchi, Gabriel Curvacho, Chih-I Wei, Neal V. Lafferty, Germain L. Fenger
Publicado en: 39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024), 2024
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3031718

Enablement of 0.55NA EUV bright field mask stitching (se abrirá en una nueva ventana)

Autores: Dongbo Xu, Qinglin Zeng, Werner Gillijns, Xuefeng Zeng, Yuyang Sun, Germain L. Fenger
Publicado en: Optical and EUV Nanolithography XXXVIII, 2025
Editor: SPIE
DOI: 10.1117/12.3051285

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