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CORDIS - Risultati della ricerca dell’UE
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Contenuto archiviato il 2024-06-18

Nanoengineering of self-forming diffusion barriers for interconnect technologies

Obiettivo

At present, copper is the material of choice in the current processing technology for advanced semiconductor devices interconnects. However, the high diffusion rate between copper and silicon or silicon oxides requires the development of physical barriers to prevent interdiffusion across the interfaces. The thickness of the currently used barriers makes them an unviable option as the semiconductor industry moves from the 45 nm node to 32 nm and beyond, and alternative approaches are required. Some groups have proposed the use of the so called self-forming barriers, which have the potential to overcome the shortcomings of the current approaches. The aim of this project is to characterize and understand the formation of self-forming diffusion barriers layers for transistor interconnects and to optimize the creation process for future generations of device technology, in the framework of a network of European collaborations involving leading laboratories. With this purpose, the candidate will develop and apply a methodology of analysis based on electron beam related techniques in order to study these structures and interfaces at the atomic scale. Among others, aberration-corrected scanning transmission electron microscopy and three dimensional characterization techniques will allow the structure; composition and homogeneity of the barrier layers to be investigated while still remain sandwiched. A promising new technique that will be applied to this system will be scanning confocal electron microscopy (SCEM), which in theory is ideally suited to analytical work on systems with extended planar geometries. Indeed, the researcher in charge at the University of Oxford, is a world reference of leadership in the use of high resolution scanning transmission electron microscopy and in the development of SCEM. This stay abroad will provide the candidate a maturity and an expertise level in this scientific field, essential to develop an independent research career.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

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Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

FP7-PEOPLE-2009-IEF
Vedi altri progetti per questo bando

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

MC-IEF - Intra-European Fellowships (IEF)

Coordinatore

THE CHANCELLOR, MASTERS AND SCHOLARS OF THE UNIVERSITY OF OXFORD
Contributo UE
€ 173 240,80
Indirizzo
WELLINGTON SQUARE UNIVERSITY OFFICES
OX1 2JD Oxford
Regno Unito

Mostra sulla mappa

Regione
South East (England) Berkshire, Buckinghamshire and Oxfordshire Oxfordshire
Tipo di attività
Higher or Secondary Education Establishments
Collegamenti
Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

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