Skip to main content
Vai all'homepage della Commissione europea (si apre in una nuova finestra)
italiano italiano
CORDIS - Risultati della ricerca dell’UE
CORDIS
Contenuto archiviato il 2024-05-29

Planar ultraviolet radiation detectors based on GaN grown on silicon substrate with novel double oxide buffer layer

Obiettivo

This proposal between the researcher dr Adam Szyszka, the Polish fellow, and dr Thomas Schroeder, the scientist in charge of the German host IHP institute in Frankfurt (Oder) concern on investigation and fabrication of gallium nitride planar UV radiation detectors grown on silicon substrate with use of novel double oxide buffer layer.
Gallium nitride and its ternary alloys with aluminium and indium have been recognized as a very important technological material system for fabricating optoelectronic, high frequency and high power devices. Because of the lack of large size GaN substrate different materials are used including silicon which advantages are low cost and large wafer size which allow mass production of devices. Many technological and research problems have to be solved to successful integration of gallium nitride on silicon. In IHP novel approach of application double oxide layer is developing.
Objectives of the project include: obtaining the quality of GaN layer on Si substrate with application of oxide layers which allow for optoelectronic device fabrication, investigation of the influence of layer growth parameters properties of the layer, design and fabrication of the prototypes of the detectors, measurements of the device parameters dependence on layer parameters and epitaxial process conditions.
Training objectives concern on enhancing technical competencies, command of foreign language improving and acquiring of complementary competencies (project management, multicultural communication, industry cooperation)
Coupling competencies of the candidate (device processing, electrical characterisation, physics of semiconductor) with attributes of host institute in its fields of expertise (advanced materials characterization methods, technology of Si integration, international cooperation) the effects of enhancing academic and complementary qualification of the candidate and increase of European Union research and innovation potential will be obtained.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

È necessario effettuare l’accesso o registrarsi per utilizzare questa funzione

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

FP7-PEOPLE-2011-IEF
Vedi altri progetti per questo bando

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

MC-IEF - Intra-European Fellowships (IEF)

Coordinatore

IHP GMBH - LEIBNIZ INSTITUTE FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS
Contributo UE
€ 104 619,00
Indirizzo
IM TECHNOLOGIEPARK 25
15236 Frankfurt Oder
Germania

Mostra sulla mappa

Regione
Brandenburg Brandenburg Frankfurt (Oder)
Tipo di attività
Research Organisations
Collegamenti
Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

Nessun dato
Il mio fascicolo 0 0