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CORDIS - Risultati della ricerca dell’UE
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Contenuto archiviato il 2024-06-16

An advanced electrical characterisation study of alternative gate dielectrics: the effect of charges and defects on material properties

Obiettivo

In the semiconductor industry, the scaling of MOSFETS ensures the continued reduction in cost and increase in speed. The gate dielectric plays a critical role in this scaling, and extensive research has been carried out on the subject of how to increase the lifetime and integrity of these layers as they become thinner and are subjected to ever increasing current densities and electric fields. The need for a `high-k layer which can be fabricated thicker (while giving equal performance) to replace SiO2 as the dielectric layer in scaled MOSFET devices to stem the leakage current problem is evident. In this project, we intend to refine test methodologies developed by IMEC on relatively well understood high-k candidates like HfO2 and apply these methodologies to more novel materials eg La2O3.

The test methodology will focus on controlling the flatband and threshold voltages, Vt shifts, channel mobility, bias temperature instability, charge formation, trapping and amp; de-trapping, and interfacial kinetics for HfO 2 films. Electrical measurements will be made on both large and small area capacitors, and on MOSFETs, and special attention will be paid to understanding the different properties of large and small area devices. Subsequently the study will be extended to new materials and these properties will be evaluated in newer high-k candidates, in an attempt to understand the physical mechanisms at work.

Another aspect of the project will be the correlation of the electrical data to physical analysis. This will be achieved by the use of materials analysis techniques (SIMS, XPS etc.) to determine chemical environments, and the linking of this data to electrical performance. The goal of the project is to develop a methodology for evaluating the suitability of high-k materials for incorporation into CMOS, and ultimately to identify such a material.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: Il Vocabolario Scientifico Europeo.

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Parole chiave

Parole chiave del progetto, indicate dal coordinatore del progetto. Da non confondere con la tassonomia EuroSciVoc (campo scientifico).

Argomento(i)

Gli inviti a presentare proposte sono suddivisi per argomenti. Un argomento definisce un’area o un tema specifico per il quale i candidati possono presentare proposte. La descrizione di un argomento comprende il suo ambito specifico e l’impatto previsto del progetto finanziato.

Invito a presentare proposte

Procedura per invitare i candidati a presentare proposte di progetti, con l’obiettivo di ricevere finanziamenti dall’UE.

FP6-2005-MOBILITY-5
Vedi altri progetti per questo bando

Meccanismo di finanziamento

Meccanismo di finanziamento (o «Tipo di azione») all’interno di un programma con caratteristiche comuni. Specifica: l’ambito di ciò che viene finanziato; il tasso di rimborso; i criteri di valutazione specifici per qualificarsi per il finanziamento; l’uso di forme semplificate di costi come gli importi forfettari.

EIF - Marie Curie actions-Intra-European Fellowships

Coordinatore

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM VZW
Contributo UE
Nessun dato
Costo totale

I costi totali sostenuti dall’organizzazione per partecipare al progetto, compresi i costi diretti e indiretti. Questo importo è un sottoinsieme del bilancio complessivo del progetto.

Nessun dato
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