Dynamic Properties of Ferroelectric III-V MOSFETs

Projektinformationen

DYNAMISM

ID Finanzhilfevereinbarung: 101019147

DOI

10.3030/101019147

EK-Unterschriftsdatum 28 Juni 2021

Startdatum 1 September 2021

Enddatum 31 August 2026

Finanziert unter

• EXCELLENT SCIENCE - European Research Council (ERC)

Gesamtkosten

€ 2 500 000,00

EU-Beitrag

€ 2 500 000,00

Koordiniert durch

LUNDS UNIVERSITET
Sweden

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Veröffentlichungen

Peer reviewed articles (10)

As-deposited ferroelectric HZO on a III-V semiconductor

Autoren: A. Andersen; AEO Persson; and L.-E. Wernersson
Veröffentlicht in: Applied Physics Letters, 2022, ISSN 0003-6951
Herausgeber: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/5.0097462

Reconfigurable signal modulation in a ferroelectric tunnel field-effect transistor

Autoren: Zhongyunshen Zhu, Anton Persson, Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: Nature Communication, Ausgabe 14, 2023, Seite(n) 2530, ISSN 2041-1723
Herausgeber: Nature Publishing Group
DOI: 10.1038/s41467-023-38242-w

RF Characterization of Ferroelectric MOS Capacitors

Autoren: Anton E. O. Persson, Stefan Andrić, Lars Fhager, Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: IEEE Electron Device Letters, Ausgabe 45, 2024, Seite(n) 1653-1656, ISSN 0741-3106
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/led.2024.3428971

Source Design of Vertical III–V Nanowire Tunnel Field-Effect Transistors

Autoren: Gautham Rangasamy, Zhongyunshen Zhu, Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: IEEE Journal on Exploratory Solid-State Computational Devices and Circuits, Ausgabe 10, 2024, Seite(n) 8-12, ISSN 2329-9231
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/jxcdc.2024.3355949

Cryogenic Ferroelectricity of HZO Capacitors on a III–V Semiconductor

Autoren: Mamidala Karthik Ram, Hannes Dahlberg, Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: IEEE Electron Device Letters, Ausgabe 45, 2024, Seite(n) 1827-1830, ISSN 0741-3106
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/led.2024.3448378

Integration of Ferroelectric HfxZr1-xO2 on Vertical III-V Nanowire Gate-All-Around FETs on Silicon

Autoren: Anton E. O. Persson; Zhongyunshen Zhu; Robin Athle; Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: ISSN: 0741-3106, Ausgabe 1, 2022, ISSN 0741-3106
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/led.2022.3171597

Sensing single domains and individual defects in scaled ferroelectrics

Autoren: Z. Zhu, A. Persson and L.-E. Wernersson
Veröffentlicht in: Science Advances, Ausgabe 9, 2023, Seite(n) 7098, ISSN 2375-2548
Herausgeber: AMER ASSOC ADVANCEMENT SCIENCE
DOI: 10.1126/sciadv.ade7098

Ferroelectric-Antiferroelectric Transition of Hf_1–<i>x</i>Zr_<i>x</i>O₂ on Indium Arsenide with Enhanced Ferroelectric Characteristics for Hf_0.2Zr_0.8O₂

Autoren: Lars-Erik Wernersson; Anton Persson; Hannes Dahlberg; Robin Athle
Veröffentlicht in: Applied Electronic Materials, Ausgabe 1, 2022, ISSN 2637-6113
Herausgeber: ACS
DOI: 10.1021/acsaelm.2c01483

High Current Density Vertical Nanowire TFETs With I₆₀ &gt; 1 <i>μ</i>A/<i>μ</i>m

Autoren: Gautham Rangasamy, Zhongyunshen Zhu, Lars-Erik Wernersson
Veröffentlicht in: IEEE Access, Ausgabe 11, 2024, Seite(n) 95692-95696, ISSN 2169-3536
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
DOI: 10.1109/access.2023.3310253

Improved Endurance of Ferroelectric HfxZr1-xO2 Integrated on InAs Using Millisecond Annealing

Autoren: R. Athle, T. Blom, A. Irish, A. Persson, L.-E. Wernersson, R. Timm, M. Borg
Veröffentlicht in: Advanced materials interfaces, Ausgabe 9, 2022, Seite(n) 2201038, ISSN 2196-7350
Herausgeber: wiley
DOI: 10.1002/admi.202201038