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14 Angstroms Module Integration

Descrizione del progetto

Progredire nella tecnologia dei semiconduttori di prossima generazione

L’industria dei semiconduttori deve affrontare sfide per mantenere il rapido ritmo del progresso tecnologico dettato dalla legge di Moore. Il passaggio a nodi più piccoli richiede progressi nella litografia, nella metrologia e nella progettazione dei transistor per garantire prestazioni, efficienza e producibilità. Alla scala dei 14 angstrom, la precisione nella fabbricazione, nell’ispezione e nel controllo di qualità è fondamentale per le tecnologie di calcolo, IA e comunicazione di prossima generazione. Inoltre, le preoccupazioni per la sostenibilità richiedono alternative più ecologiche ai materiali e ai processi tradizionali. In questo contesto, il progetto 14AMI, finanziato dall’UE, svilupperà soluzioni all’avanguardia per il nodo CMOS da 14Å. Concentrandosi sul perfezionamento della litografia a ultravioletti estremi (EUV), sui pionieristici metodi di metrologia olistica e sull’integrazione dei transistor complementari a effetto di campo (CFET), il progetto promuove anche la sostenibilità con fotoresistenze prive di PFAS e miglioramenti dell’efficienza guidati dall’intelligenza artificiale.

Obiettivo

The 14AMI project is about creating technological solutions for the 14 Angstrom CMOS technology node, including a fully integrated functional CFET (Complementary Field Effect Transistor) as new active CMOS device, and state-of-the-art holistic metrology techniques for both wafer and mask inspection and review. All is aimed to keep the pace in the industry to follow Moores law.
The project addresses the following 3 main pillars that are relevant in enabling manufacture of 14A technology, 1) lithography, 2) metrology and 3) process module integration.

In lithography the aim is to realize solutions for the 0.55NA EUV scanner platform to secure 14Angstrom node compliance in performance, that is, resolution, alignment, throughput and optics lifetime. In Metrology the objective is to cover wafer and mask metrology and quality control. The aim is to develop holistic metrology, tools & methods and data analytics to improve overlay, CD and focus measurement and quality control with a Precision to Tolerance, P/T, ratio between 0.1 and 0.3. In process module integration work covers the realization and demonstration of a CFET Complementary Field Effect Transistor - CMOS device. Three options will be investigated for integration; a monolithic, sequential and a hybrid solution. In addition, the partners will develop a PFAS-free photo resist to reduce the ecological footprint of photolithography processes, and a smart AI based sensor technology to improve vacuum chambers' efficiency and reduce waste.

At societal level the expected impact of the 14AMI project will support the partners and their supplier network to stay at the leading edge of high-tech developments, crucial to meet the digitization challenges of the European society. Moreover, 14AMI will boost industrial competitiveness, and attract talent in Europe, while enabling new application in areas such as security, communication and enabling of further automation in mobility, health and research.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

CORDIS classifica i progetti con EuroSciVoc, una tassonomia multilingue dei campi scientifici, attraverso un processo semi-automatico basato su tecniche NLP. Cfr.: https://op.europa.eu/en/web/eu-vocabularies/euroscivoc.

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Coordinatore

ASML NETHERLANDS B.V.
Contributo netto dell'UE
€ 3 917 654,98
Indirizzo
DE RUN 6501
5504DR Veldhoven
Paesi Bassi

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Regione
Zuid-Nederland Noord-Brabant Zuidoost-Noord-Brabant
Tipo di attività
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Collegamenti
Costo totale
€ 25 000 000,00

Partecipanti (36)

Partner (2)