Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski pl
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS
Zawartość zarchiwizowana w dniu 2024-04-15

Assessment of Silicon MBE Layers

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Wyniki nadające się do wykorzystania

The objective of this project was to improve the characteristics of silicon epitaxial layers grown by molecular beam epitaxy (MBE). Capability of growing structures for microelectronic devices, application of appropriate methods to assess the epitaxial material and aspects of improved silicon MBE process control were also addressed. The project aimed to: grow silicon and silicon germanium layers by MBE; measure deposition conditions in situ; implement and develop techniques for the growth and the characterisation of MBE layers. Submicron and nanometer doped MBE layers were grown and analysed in detail and the results used for in situ doping control. Multilayer structures for high frequency device applications were made and assessed. Spreading resistance profiling, secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and preferential etching proved to be the most useful set of assessment techniques. Equipment with automatic wafer transfer was developed.

Wyszukiwanie danych OpenAIRE...

Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd

Brak wyników

Moja broszura 0 0