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CarbON Nanotube compositE InterconneCTs

Leistungen

Veröffentlichungen

Physical Description and Analysis of Doped Carbon Nanotube Interconnects

Autoren: J. Liang, L. Zhang, N. Azemard-Crestani, P. Nouet, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2016 IEEE Power and Timing Modeling, Optimization and Simulation, 2016
Herausgeber: IEEE Power and Timing Modeling, Optimization and Simulation (PATMOS)

Present and future prospects of carbon nanotube interconnects for energy efficient integrated circuits

Autoren: Aida Todri-Sanial, Alessandro Magnani, Massimiliano de Magistris, Antonio Maffucci
Veröffentlicht in: 2016 17th International Conference on Thermal, Mechanical and Multi-Physics Simulation and Experiments in Microelectronics and Microsystems (EuroSimE), 2016, Seite(n) 1-5, ISBN 978-1-5090-2106-2
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/EuroSimE.2016.7463379

Investigation of Electrical and Thermal Properties of Carbon Nanotube Interconnects

Autoren: A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2016 IEEE Power and Timing Modeling, Optimization and Simulation, 2016
Herausgeber: IEEE Power and Timing Modeling, Optimization and Simulation (PATMOS)

Carbon Nanotubes for Interconnects

Autoren: Jie Liang, Aida Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2016 IEEE International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, 2016
Herausgeber: SISPAD 2016

Tools for Simulation Workflow Management and their Application to Interconnect Modelling

Autoren: S. M. Amoroso, A. Pender, A. Brown, D. Reid, E. Towie, P. Asenov, C. Millar and A. Asenov
Veröffentlicht in: 2016 IEEE International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, 2016
Herausgeber: SISPAD 2016

Status and Future of Advanced Interconnects and the Needs for Simulation

Autoren: Olivier Faynot, Severine Cheramy, Maud Vinet, Sylvain Maitrejean
Veröffentlicht in: 2016 IEEE International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, 2016
Herausgeber: SISPAD 2016

Challenges and Progress on Carbon Nanotube Integration for BEOL Interconnects

Autoren: B. Uhlig, A. Dhavamani, N. Nagy, K. Lilienthal, R. Liske, R. Ramos, J. Dijon, H. Okuno, D. Kalita, J. Lee, V. Georgiev, A. Asenov, S. Amoroso, L. Wang, F. Koenemann, B. Gotsmann, G. Goncalves, B. Chen, J. Liang, R. R. Pandey, R. Chen, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2018 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC), 2018, Seite(n) 16-18, ISBN 978-1-5386-4337-2
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IITC.2018.8430411

Atomistic to circuit level modeling of defective doped SWCNTs with contacts for on-chip interconnect application

Autoren: J. Liang, J. Lee, S. Berrada, V. Georgiev, A. Asenov, N. Azemard-Crestani, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2017 IEEE 12th Nanotechnology Materials and Devices Conference (NMDC), 2017, Seite(n) 66-67, ISBN 978-1-5386-2772-3
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/NMDC.2017.8350506

A physics-based investigation of Pt-salt doped carbon nanotubes for local interconnects

Autoren: J. Liang, R. Ramos, J. Dijon, H. Okuno, D. Kalita, D. Renaud, J. Lee, V. P. Georgiev, S. Berrada, T. Sadi, A. Asenov, B. Uhlig, K. Lilienthal, A. Dhavamani, F. Konemann, B. Gotsmann, G. Goncalves, B. Chen, K. Teo, R. R. Pandey, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 2017 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2017, Seite(n) 35.5.1-35.5.4, ISBN 978-1-5386-3559-9
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IEDM.2017.8268502

Atoms-to-circuits simulation investigation of CNT interconnects for next generation CMOS technology

Autoren: Jaehyun Lee, Jie Liang, Salvatore M. Amoroso, Toufik Sadi, Liping Wang, Flamen Asenov, Andrew Pender, Dave T. Reid, Vihar P. Georgiev, Campbell Millar, Aida Todri-Sanial, Asen Asenov
Veröffentlicht in: 2017 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2017, Seite(n) 153-156, ISBN 978-4-86348-610-2
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.23919/SISPAD.2017.8085287

Progress on Carbon Nanotube BEOL Interconnects.

Autoren: Uhlig, B., Liang, J., Lee, J., Ramos, R., Dhavamani, A., Nagy, N., Dijon, J., Okuno, H., Kalita, D., Georgiev, V., Asenov, A., Amoroso, S., Wang, L., Millar, C., Konemann, F., Gotsmann, B., Goncalves, G., Chen, B., Pandey, R. R., Chen, R., and Todri-Sanial, A.
Veröffentlicht in: 2018 Design, Automation & Test in Europe Conference & Exhibition (DATE), Dresden, Germany, 19-23 Mar 2018, 2018
Herausgeber: IEEE

Nanoscale Scanning Probe Thermometry

Autoren: Fabian Konemann, Morten Vollmann, Fabian Menges, I-Ju Chen, Norizzawati Mohd Ghazali, Tomohiro Yamaguchi, Koji Ishibashi, Claes Thelander, Bernd Gotsmann
Veröffentlicht in: 2018 24rd International Workshop on Thermal Investigations of ICs and Systems (THERMINIC), 2018, Seite(n) 1-6, ISBN 978-1-5386-6759-0
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/therminic.2018.8593312

Nanoscale Thermometry by Scanning Microscopy

Autoren: Fabian Konemann, Morten Vollmann, Fabian Menges, Bernd Gotsmann
Veröffentlicht in: THERMINIC 2018 - 24th International Worskhop, 2018
Herausgeber: THERMINIC 2018 - 24th International Worskhop

The impact of vacancy defects on CNT interconnects: From statistical atomistic study to circuit simulations

Autoren: Jaehyun Lee, Salim Berrada, Jie Liang, Toufik Sadi, Vihar P. Georgiev, Aida Todri-Sanial, Dipankar Kalita, Raphael Ramos, Hanako Okuno, Jean Dijon, Asen Asenov
Veröffentlicht in: 2017 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2017, Seite(n) 157-160, ISBN 978-4-86348-610-2
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.23919/SISPAD.2017.8085288

Atomistic to Circuit Level Modeling of Defective Doped SWCNTs with Contacts for On-Chip Interconnect Application

Autoren: J. Liang, J. Lee, S. Berrada, V. Georgiev, A. Asenov, N. Azemard-Crestani, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: 12th IEEE Nanotechnology Materials and Devices Conference (NMDC), 2017
Herausgeber: IEEE

Power and Performance Analysis of Doped SW/DW CNT for On-Chip Interconnect Application

Autoren: J. Liang, A. Todri-Sanial
Veröffentlicht in: GRAPHENE 2017 International Conference., 2017
Herausgeber: GRAPHENE 2017 International Conference.

Atoms-to-Circuits Simulation Investigation of CNT Interconnects for Next Generation CMOS Technologies.

Autoren: J. Lee, J. Liang, S. M. Amoroso, T. Sadi, L. Wang, P. Asenov, A. Pender, D. Reid, V. P. Georgiev, C. Millar, A. Todri-Sanial, and A. Asenov
Veröffentlicht in: 22nd International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2017
Herausgeber: IEEE

Local thermometry of self-heated nanoscale devices

Autoren: F. Menges, F. Motzfeld, H. Schmid, P. Mensch, M. Dittberner, S. Karg, H. Riel, B. Gotsmann
Veröffentlicht in: 2016 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2016, Seite(n) 15.8.1-15.8.4, ISBN 978-1-5090-3902-9
Herausgeber: IEEE
DOI: 10.1109/IEDM.2016.7838427

A hierarchical model for CNT and Cu-CNT composite interconnects: from density functional theory to circuit-level simulations

Autoren: J. Lee, T. Sadi, Jie Liang, V. P. Georgiev, A. Todri-Sanial, and A. Asenov.
Veröffentlicht in: 2017 International Workshop on Computational Nanotechnology (IWCN), 2017
Herausgeber: IEEE

Understanding Electromigration in Cu-CNT Composite Interconnects: A Multiscale Electrothermal Simulation Study

Autoren: Jaehyun Lee, Salim Berrada, Fikru Adamu-Lema, Nicole Nagy, Vihar P. Georgiev, Toufik Sadi, Jie Liang, Raphael Ramos, Hamilton Carrillo-Nunez, Dipankar Kalita, Katharina Lilienthal, Marcus Wislicenus, Reeturaj Pandey, Bingan Chen, Kenneth B. K. Teo, Goncalo Goncalves, Hanako Okuno, Benjamin Uhlig, Aida Todri-Sanial, Jean Dijon, Asen Asenov
Veröffentlicht in: IEEE Transactions on Electron Devices, Ausgabe 65/9, 2018, Seite(n) 3884-3892, ISSN 0018-9383
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/TED.2018.2853550

Variability Study of MWCNT Local Interconnects Considering Defects and Contact Resistances--Part II: Impact of Charge Transfer Doping

Autoren: Rongmei Chen, Jie Liang, Jaehyun Lee, Vihar P. Georgiev, Raphael Ramos, Hanako Okuno, Dipankar Kalita, Yuanqing Cheng, Liuyang Zhang, Reetu R. Pandey, Salvatore Amoroso, Campbell Millar, Asen Asenov, Jean Dijon, Aida Todri-Sanial
Veröffentlicht in: IEEE Transactions on Electron Devices, 2018, Seite(n) 1-8, ISSN 0018-9383
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/TED.2018.2868424

Variability Study of MWCNT Local Interconnects Considering Defects and Contact Resistances--Part I: Pristine MWCNT

Autoren: Rongmei Chen, Jie Liang, Jaehyun Lee, Vihar P. Georgiev, Raphael Ramos, Hanako Okuno, Dipankar Kalita, Yuanqing Cheng, Liuyang Zhang, Reetu R. Pandey, Salvatore Amoroso, Campbell Millar, Asen Asenov, Jean Dijon, Aida Todri-Sanial
Veröffentlicht in: IEEE Transactions on Electron Devices, 2018, Seite(n) 1-8, ISSN 0018-9383
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/TED.2018.2868421

Atomistic- to Circuit-Level Modeling of Doped SWCNT for On-Chip Interconnects

Autoren: Jie Liang, Jaehyun Lee, Salim Berrada, Vihar P. Georgiev, Reeturaj Pandey, Rongmei Chen, Asen Asenov, Aida Todri-Sanial
Veröffentlicht in: IEEE Transactions on Nanotechnology, Ausgabe 17/6, 2018, Seite(n) 1084-1088, ISSN 1536-125X
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/TNANO.2018.2802320

A Survey of Carbon Nanotube Interconnects for Energy Efficient Integrated Circuits

Autoren: Aida Todri-Sanial, Raphael Ramos, Hanako Okuno, Jean Dijon, Abitha Dhavamani, Marcus Widlicenus, Katharina Lilienthal, Benjamin Uhlig, Toufik Sadi, Vihar Georgiev, Asen Asenov, Salvatore Amoroso, Andrew Pender, Andrew Brown, Campbell Millar, Fabian Motzfeld, Bernd Gotsmann, Jie Liang, Goncalo Goncalves, Nalin Rupesinghe, Ken Teo
Veröffentlicht in: IEEE Circuits and Systems Magazine, Ausgabe 17/2, 2017, Seite(n) 47-62, ISSN 1531-636X
Herausgeber: Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI: 10.1109/MCAS.2017.2689538

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