Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski pl
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS

Topological semimetals for ultra-efficient electrical interconnects

Opis projektu

Rozwiązanie problemu wąskich gardeł miedzi w układach krzemowych

Wraz ze zmniejszaniem rozmiarów tranzystorów, coraz większy problem stanowią miedziane przewody wewnątrz krzemowych układów scalonych. Przewody zwane interkonektami przenoszą sygnały między komponentami. W nanoskali problemem staje się rosnąca oporność. To spowalnia układy i powoduje straty energii w postaci ciepła. To ograniczenie stanowi problem dla zaawansowanych technologii komputerowych przyszłości. Zespół finansowanego ze środków Europejskiej Rady ds. Innowacji projektu TICON ma na celu pokonanie tej przeszkody poprzez wykorzystanie półmetali topologicznych. Te nowatorskie materiały przewodzą prąd głównie wzdłuż swojej powierzchni. Dzięki temu zapewniają przepływ elektronów poprzez utrzymanie niskiej rezystancji nawet w nanoskali, zmniejszając rozpraszanie. W ramach projektu powstaną wysokiej jakości cienkie warstwy tych metali, a ich powierzchnie zostaną poddane obróbce w celu usprawnienia przenoszenia energii. Badacze zapewnią również zgodność nowych materiałów z konwencjonalną produkcją układów krzemowych.

Cel

Moore's law dictates that the number of transistors in a Si CMOS integrated circuit will double every other year through size reductions that result in improved devices with smaller footprints. However, smaller transistors and greater transistor density also requires smaller interconnect copper metal wires to connect billions of transistors together. The issue is that metal wires, in contrast to transistors, show degraded performance when reduced in size. This has resulted in an interconnect bottleneck, i.e. the situation when overall circuit performance is determined by interconnect delays, rather than transistor performance, and is one of the most serious challenges facing CMOS scaling today. By 2030, the interconnect linewidth will reach below 10 nm. At that point, Cu shows exponentially increasing resistivity due to surface and grain scattering, which will result in significantly increased delays and power dissipation. The solution to this issue is to develop new interconnect materials with improved properties at technologically relevant dimensions. This is the goal of the TICON project.

The long-term vision of TICON is to replace scaled Cu interconnects in CMOS technologies with topological semimetals, a class of materials where electrical currents are dominated by surface states that exhibit protection from scattering. Several experimental reports now exist showing the extraordinary scaling properties of such materials, indicated by a reduction (rather than increase) of resistivity, as the dimensions of the semimetal are reduced. In this project, we employ the latest understanding of the physical mechanisms that govern topological semimetal transport, chirality, correlation and surface state engineering, together with a focused effort to synthesize high-quality thin films. We will then demonstrate the integration of such films on Si platforms, and establish the required material properties and optimizations to facilitate uptake into Si CMOS technology.

Dziedzina nauki (EuroSciVoc)

Projekt nie został jeszcze sklasyfikowany według klasyfikacji EuroSciVoc.
Wskaż dziedziny nauki, które twoim zdaniem są najbardziej istotne z punktu widzenia tego projektu i pomóż nam usprawnić naszą usługę klasyfikacji.

Słowa kluczowe

Program(-y)

Temat(-y)

System finansowania

HORIZON-EIC - HORIZON EIC Grants

Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego programu finansowania

Zaproszenie do składania wniosków

(odnośnik otworzy się w nowym oknie) HORIZON-EIC-2025-PATHFINDEROPEN

Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego zaproszenia

Koordynator

IBM RESEARCH GMBH
Wkład UE netto
€ 727 375,00
Adres
SAEUMERSTRASSE 4
8803 RUESCHLIKON
Szwajcaria
Region
Schweiz/Suisse/Svizzera Nordwestschweiz Aargau
Rodzaj działalności
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Linki
Koszt całkowity
€ 727 375,00

Uczestnicy (5)