Risultati finali
Functional characterization of CMOS-SET demonstrators
First delivery of wafer-scale pillars with Si nanodots for device fabricationReport on predicted optimum device specifications for demonstrator fabrication
Report on stability studies of nanopillars
Report on stability studies of nanopillars under ion irradiation
Report on optimum processing conditions in planar stacks with HIMReport on process simulation of single Si dot self-assembly
First data from ion beam mixing simulations as input for kinetic Monte-Carlo simulations
Electrical characterization of functional nano-pillars
Report on simulation of electrical performance of silicon nanodot single electron devices
Assessment of silicon nanodot SETs as low-energy dissipation devices
Structural characterization of Si nanodot self-assembly
Report on process definition
Structural characterization of functional nano-pillars
Electrical characterization of Si nanodot self-assembly
Report on Si nanodot self-assembly in Si/SiO2/Si nanopillar stacks
Plan for fabrication of Si nanodot self-assem-bly by ion processing
Report on the first version of process simulator of ion implantation and mixing in Si/SiO2 nanostructures
Assessment of IETS and DA-SDT investiga-tion of defects at the Si/SiO2 interface
Pubblicazioni
Autori:
F. Djurabekova, C. Fridlund, K. Nordlund
Pubblicato in:
Physical Review Materials, Numero 4/1, 2020, Pagina/e 013601-1 to 013601-12, ISSN 2475-9953
Editore:
American Physical Society
DOI:
10.1103/physrevmaterials.4.013601
Autori:
Gabriele Seguini, Fabio Zanenga, Gianluca Cannetti, Michele Perego
Pubblicato in:
Soft Matter, Numero 16/23, 2020, Pagina/e 5525-5533, ISSN 1744-683X
Editore:
Royal Society of Chemistry
DOI:
10.1039/d0sm00441c
Autori:
Santiago H Andany, Gregor Hlawacek, Stefan Hummel, Charlène Brillard, Mustafa Kangül, Georg E Fantner
Pubblicato in:
Beilstein Journal of Nanotechnology, Numero 11, 2020, Pagina/e 1272-1279, ISSN 2190-4286
Editore:
Beilstein-Institut Zur Forderung der Chemischen Wissenschaften
DOI:
10.3762/bjnano.11.111
Autori:
E. Amat, F. Klupfel, J. Bausells, F. Perez-Murano
Pubblicato in:
IEEE Transactions on Electron Devices, Numero 66/10, 2019, Pagina/e 4461-4467, ISSN 0018-9383
Editore:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/ted.2019.2937141
Autori:
A. Lopez-Cazalilla, F. Djurabekova, A. Ilinov, C. Fridlund, K. Nordlund
Pubblicato in:
Materials Research Letters, Numero 8/3, 2020, Pagina/e 110-116, ISSN 2166-3831
Editore:
Taylor & Francis
DOI:
10.1080/21663831.2019.1711458
Autori:
Thomas Prüfer, Wolfhard Möller, Karl-Heinz Heinig, Daniel Wolf, Hans-Jürgen Engelmann, Xiaomo Xu, Johannes von Borany
Pubblicato in:
Journal of Applied Physics, Numero 125/22, 2019, Pagina/e 225708, ISSN 0021-8979
Editore:
American Institute of Physics
DOI:
10.1063/1.5096451
Autori:
M.-L. Pourteau, A. Gharbi, P. Brianceau, J.-A. Dallery, F. Laulagnet, G. Rademaker, R. Tiron, H.-J. Engelmann, J. von Borany, K.-H. Heinig, M. Rommel, L. Baier
Pubblicato in:
Micro and Nano Engineering, Numero 9, 2020, Pagina/e 100074, ISSN 2590-0072
Editore:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.mne.2020.100074
Autori:
Fabian J. Klupfel
Pubblicato in:
IEEE Access, Numero 7, 2019, Pagina/e 84053-84065, ISSN 2169-3536
Editore:
Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
DOI:
10.1109/access.2019.2924913
Autori:
Federica E. Caligiore, Daniele Nazzari, Elena Cianci, Katia Sparnacci, Michele Laus, Michele Perego, Gabriele Seguini
Pubblicato in:
Advanced Materials Interfaces, Numero 6/12, 2019, Pagina/e 1900503, ISSN 2196-7350
Editore:
Wiley
DOI:
10.1002/admi.201900503
Autori:
Patricia Pimenta Barros, Ahmed Gharbi, Antoine Fouquet, Sandra Bos, Jérôme Hazart, Florian Delachat, Xavier Chevalier, Ian Cayrefourcq, Laurent Pain, Raluca Tiron
Pubblicato in:
Macromolecular Materials and Engineering, Numero 302/11, 2017, Pagina/e 1700285, ISSN 1438-7492
Editore:
John Wiley & Sons Ltd.
DOI:
10.1002/mame.201700285
Autori:
S Zhang, O H Pakarinen, M Backholm, F Djurabekova, K Nordlund, J Keinonen, T S Wang
Pubblicato in:
Journal of Physics: Condensed Matter, Numero 30/1, 2018, Pagina/e 015403, ISSN 0953-8984
Editore:
Institute of Physics Publishing
DOI:
10.1088/1361-648x/aa9868
Autori:
Esteve Amat, Joan Bausells, Francesc Perez-Murano
Pubblicato in:
IEEE Transactions on Electron Devices, Numero 64/12, 2017, Pagina/e 5172-5180, ISSN 0018-9383
Editore:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/ted.2017.2765003
Autori:
Xiaomo Xu, Thomas Prüfer, Daniel Wolf, Hans-Jürgen Engelmann, Lothar Bischoff, René Hübner, Karl-Heinz Heinig, Wolfhard Möller, Stefan Facsko, Johannes von Borany, Gregor Hlawacek
Pubblicato in:
Beilstein Journal of Nanotechnology, Numero 9, 2018, Pagina/e 2883-2892, ISSN 2190-4286
Editore:
Beilstein-Institut Zur Forderung der Chemischen Wissenschaften
DOI:
10.3762/bjnano.9.267
Autori:
Gabriele Seguini, Fabio Zanenga, Michele Laus, Michele Perego
Pubblicato in:
Physical Review Materials, Numero 2/5, 2018, Pagina/e from 055605-1 to 055605-6, ISSN 2475-9953
Editore:
American Physical Society (APS)
DOI:
10.1103/physrevmaterials.2.055605
Autori:
Elena Cianci, Daniele Nazzari, Gabriele Seguini, Michele Perego
Pubblicato in:
Advanced Materials Interfaces, Numero 5/20, 2018, Pagina/e 1801016, ISSN 2196-7350
Editore:
John Wiley & Sons
DOI:
10.1002/admi.201801016
Autori:
Florian Delachat, Ahmed Gharbi, Patricia Pimenta-Barros, Antoine Fouquet, Guillaume Claveau, Nicolas Posseme, Laurent Pain, Célia Nicolet, Christophe Navarro, Ian Cayrefourcq, Raluca Tiron
Pubblicato in:
Nanoscale, Numero 10/23, 2018, Pagina/e 10900-10910, ISSN 2040-3364
Editore:
Royal Society of Chemistry
DOI:
10.1039/c8nr00123e
Autori:
E. AMAT, R. CANAL, A. CALOMARDE, A. RUBIO
Pubblicato in:
International Journal of the Society of Materials Engineering for Resources, Numero 23/1, 2018, Pagina/e 22-29, ISSN 1347-9725
Editore:
Society of Materials Engineering for Resources for Japan
DOI:
10.5188/ijsmer.23.22
Autori:
Jacopo Frascaroli, Elena Cianci, Sabina Spiga, Gabriele Seguini, Michele Perego
Pubblicato in:
ACS Applied Materials & Interfaces, Numero 8/49, 2016, Pagina/e 33933-33942, ISSN 1944-8244
Editore:
American Chemical Society
DOI:
10.1021/acsami.6b11340
Autori:
C. Fridlund, J. Laakso, K. Nordlund, F. Djurabekova
Pubblicato in:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Numero 409, 2017, Pagina/e 14-18, ISSN 0168-583X
Editore:
Elsevier BV
DOI:
10.1016/j.nimb.2017.04.034
Autori:
Serim Ilday, F. Ömer Ilday, René Hübner, Ty J. Prosa, Isabelle Martin, Gizem Nogay, Ismail Kabacelik, Zoltan Mics, Mischa Bonn, Dmitry Turchinovich, Hande Toffoli, Daniele Toffoli, David Friedrich, Bernd Schmidt, Karl-Heinz Heinig, Rasit Turan
Pubblicato in:
Nano Letters, Numero 16/3, 2016, Pagina/e 1942-1948, ISSN 1530-6984
Editore:
American Chemical Society
DOI:
10.1021/acs.nanolett.5b05158
Autori:
K. Nordlund, F. Djurabekova, G. Hobler
Pubblicato in:
Physical Review B, Numero 94/21, 2016, Pagina/e from 214109-1 to 214109-20, ISSN 1098-0121
Editore:
American Physical Society
DOI:
10.1103/PhysRevB.94.214109
Autori:
Xiaomo Xu, Karl-Heinz Heinig, Wolfhard Möller, Hans-Jürgen Engelmann, Nico Klingner, Ahmed Gharbi, Raluca Tiron, Johannes von Borany, Gregor Hlawacek
Pubblicato in:
Semiconductor Science and Technology, Numero 35/1, 2020, Pagina/e 015021, ISSN 0268-1242
Editore:
Institute of Physics Publishing
DOI:
10.1088/1361-6641/ab57ba
Autori:
Amat, Esteve; Moral, Alberto del; Bausells, Joan; Perez-Murano, Francesc; Klüpfel, Fabian
Pubblicato in:
Proc. Conference on Design of Circuits and Integrated Systems (DCIS), Numero IEEE Xplore, April 2019, 2019
Editore:
IEEE
DOI:
10.1109/dcis.2018.8681478
Autori:
F. J. Klupfel, P. Pichler
Pubblicato in:
2017 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2017, Pagina/e 77-80, ISBN 978-4-86348-610-2
Editore:
IEEE
DOI:
10.23919/SISPAD.2017.8085268
Autori:
Gabriel Reynaud, Ahmed Gharbi, Patricia Pimenta-Barros, Olivia Saouaf, Laurent Pain, Raluca Tiron, Christophe Navarro, Célia Nicolet, Ian Cayrefourcq, Michele Perego, Francesc Pérez-Murano, Esteve Amat, Marta Fernández-Regúlez
Pubblicato in:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXV, 2018, Pagina/e 25, ISBN 9781-510616653
Editore:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2297414
Autori:
F. J. Klupfel, A. Burenkov, J. Lorenz
Pubblicato in:
2016 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2016, Pagina/e 237-240, ISBN 978-1-5090-0818-6
Editore:
IEEE
DOI:
10.1109/SISPAD.2016.7605191
Autori:
Christoffer Fridlund
Pubblicato in:
2016, Pagina/e 1 - 65
Editore:
Faculty of Science, University of Helsinki
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