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Superb Atomic LAyer Deposition tool for the semiconductor INdustry

Descrizione del progetto

Una tecnica ottimizzata di deposizione di pellicole sottili potrebbe migliorare i rivestimenti dei semiconduttori

La deposizione di strati atomici (ALD) è fondamentale nella produzione di semiconduttori, in quanto consente un controllo preciso della deposizione di pellicole sottili. Il progetto SALADIN, finanziato dall’UE, mira a dimostrare l’efficacia del sistema P300F di Picosun per l’industria europea dei semiconduttori. In collaborazione con Silex Microsystems e Pegasus Chemicals, SALADIN testerà, convaliderà e fornirà precursori chimici per pellicole sottili ALD. Il mercato di riferimento principale è la lavorazione e la produzione di sistemi microelettromeccanici (MEMS). L’obiettivo è dimostrare che un unico sistema ALD può soddisfare le diverse esigenze di rivestimento dei dispositivi di fonderia MEMS, rispettandone i requisiti di qualità, flessibilità, produttività e costo. L’ottimizzazione dei sistemi e dei processi renderà la tecnologia ALD più accessibile e conveniente, consentendo di ottenere rivestimenti di alta qualità a costi contenuti in varie applicazioni, tra cui diodi a emissione luminosa, sensori e dispositivi semiconduttori composti.

Obiettivo

The main objective of SALaDIn project is to prove industrial applicability of Picosun’s Atomic Layer Deposition (ALD) system, called P300F, for the needs of European semiconductor industry. This will be performed in collaboration with Silex Microsystems and Pegasus Chemicals who are responsible for testing and validation of the tool in industrial environment, and supply of chemical precursors for ALD thin films, respectively. The first target market is MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) processing and production. The goal is to show that a single ALD system can fulfil the coating needs of MEMS foundry’s multiple devices by meeting film property and quality requirements, flexibility requirements for materials and processes as well as productivity requirements and cost targets for final devices. The system and processes optimized during the project will bring the ALD technology easily accessible and affordable for companies working with wafer sizes other than the mainstream 12” silicon technology and enable cost effective and high quality coatings in various application fields, such as MEMS, LEDs, sensors and devices made on compound semiconductors.

Campo scientifico (EuroSciVoc)

Parole chiave

Programma(i)

Argomento(i)

Meccanismo di finanziamento

IA - Innovation action

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Invito a presentare proposte

(si apre in una nuova finestra) H2020-ICT-2016-2017

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Coordinatore

PICOSUN OY
Contributo netto dell'UE
€ 929 250,00
Indirizzo
TIETOTIE 3
02150 Espoo
Finlandia
PMI
Sì
Regione
Manner-Suomi Helsinki-Uusimaa Helsinki-Uusimaa
Tipo di attività
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Collegamenti
Costo totale
€ 1 327 500,00

Partecipanti (2)