Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski polski
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS
Zawartość zarchiwizowana w dniu 2024-05-07

ADVANCED APPLICATIONS of LOW TEMPERATURE EPITAXIAL SILICON ALLOYS

Cel



Six research teams from research institutes and industrial sites, leading and of newly developed SiGe materials in advanced devices. "Standard" in the field of low-temperature epitaxial Si and SiGe, will hire young fellows (post-docs) hr. in total 21 Men-Years. An active search for means low x and smooth layers, but with atomically sharp interfaces. Not interested people will be organised within the EU. They will be called in only the bandgap engineering possibilities of SiGe but also the research groups active in the development of SiGe materials and their structural possibilities of epitaxial growth and stacking of layers with application in advanced devices. Next, young researchers from the partners different Ge-and doping content and thickness offer possibilities for improving CMOS performance: improved threshold voltage control, reduced sites can visit the other partners' labs for shorter stays in order to get an overview over the different other technologies.
S/D capacitance, lower power consumption, higher speed etc... Devices envisaged are a selective SiGe channel CMOS process avoiding S/D implant, Vertical MOSFET's (< 0.1 Fm gate length controlled by a layer thickness), Quantum Well SiGe CMOS on SIMOX wafers, poly SiGe gate CMOS. A first novel material is nanostructured Si1-xGex with high x, which structures itself into island while growing due to the excess strain; it forms the base for light emitting diodes. A second material is SiGeC, offering even wider band gap engineering possibilities, for use in high frequency MODFET's. One partner will develop relaxed, smooth SiGe substrates to be used for strained Si as well as SiGe epitaxy. A lot of exchange of wafers, analysis and measurements, and technology is planned, as well as joint theory development.

Dziedzina nauki (EuroSciVoc)

Klasyfikacja projektów w serwisie CORDIS opiera się na wielojęzycznej taksonomii EuroSciVoc, obejmującej wszystkie dziedziny nauki, w oparciu o półautomatyczny proces bazujący na technikach przetwarzania języka naturalnego. Więcej informacji: Europejski Słownik Naukowy.

Aby użyć tej funkcji, musisz się zalogować lub zarejestrować

Program(-y)

Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.

Temat(-y)

Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.

Zaproszenie do składania wniosków

Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.

Brak dostępnych danych

System finansowania

Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.

NET - Research network contracts

Koordynator

Interuniversitair Mikro-Electronika Centrum VZW
Wkład UE
Brak danych
Adres
75,Kapeldreef
3001 Heverlee
Belgia

Zobacz na mapie

Koszt całkowity

Ogół kosztów poniesionych przez organizację w związku z uczestnictwem w projekcie. Obejmuje koszty bezpośrednie i pośrednie. Kwota stanowi część całkowitego budżetu projektu.

Brak danych

Uczestnicy (7)

Moja broszura 0 0