Opis projektu
Nowatorska technologia sterowania procesami będzie wspierać optymalizację osadzania cienkich warstw
Cienkie i ultracienkie warstwy stanowią warstwy materiałów osadzanych na podłożu w celu zmiany lub poprawy jego właściwości. Ich grubość waha się od jednego mikrometra do ułamków nanometra. Obecnie rozwiązania tego rodzaju cieszą się coraz większą popularnością na rynku ze względu na ich zastosowania w produkcji elementów półprzewodnikowych, rozwiązaniach nanotechnologicznych, optoelektronicznych, a także w urządzeniach medycznych i środowiskowych. Osadzanie bardzo cienkich warstw nastręcza jednak wielu trudności ze względu na zróżnicowane technologie, spośród których większość wymaga zastosowania komór próżniowych. Zespół finansowanego ze środków Unii Europejskiej projektu INTELEG S HF opracowuje pionierski system analizy gazów do sterowania procesami w zróżnicowanych środowiskach, który umożliwi dalszy wzrost dynamicznie rozwijającego się rynku cienkich warstw.
Cel
The fast growing thin and ultra-thin film industries largely rely on modern vacuum-based processes, which often exhibit fast and slow process gas composition changes and drifts. Such changes are undesirable and can result in reproducibility and product quality issues. Various control strategies, relying on proper monitoring systems (such as Gas Analysis Systems [GAS]), can be employed to stabilise production processes at the desired working point by regulating gas flow and thus adjusting gas composition. However, currently existing GAS are rather limited and there is no solution available on the market that provides gas composition information reliably in the process pressure range between 0.1 and 10,000 mTorr as well as provide 24/7 non-stop operation. Furthermore, ultra-thin film market has been exponentially growing: by 2024 it is expected to grow at CAGR of 15.1%; up to €99.78 bn. Due to the growing demand for reliable wide-range GAS solving the existing shortcomings, Nova Fabrica has developed a miniature high-frequency plasma-OES-based gas analysis system INTELEG® S HF. It enables to measure the gas composition of vacuum-based processes in the pressure range from 0.1 up to 10,000 mTorr. It is expected that INTELEG® S HF will be the first single GAS instrument in the world capable to provide process gas analysis for PVD, CVD, ALD, IAD, etc., as well as for processes taking place in even lower vacuum at pressures up to 10,000 mTorr. Comparing to competing solutions, a breakthrough INTELEG® S HF solution offers a true global “down-stream” process gas analysis, 24/7 operation, 100,000 hours of mean time before failure, fulfilment of industry 4.0 requirements, competitive price, has no production downtime and is maintenance-free. The main objectives of Phase 1 of SME Instrument are to develop an elaborate feasibility study including technical feasibility testing, IPR strategy and business plan – crucial steps towards successful commercialisation of the solution.
Dziedzina nauki
Program(-y)
Temat(-y)
Zaproszenie do składania wniosków
Zobacz inne projekty w ramach tego zaproszeniaSzczegółowe działanie
H2020-SMEInst-2018-2020-1
System finansowania
SME-1 - SME instrument phase 1Koordynator
30106 IGNALINA
Litwa
Organizacja określiła się jako MŚP (firma z sektora małych i średnich przedsiębiorstw) w czasie podpisania umowy o grant.