European Commission logo
polski polski
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS

IC Technology for the 2nm Node

Opis projektu

Ciągłe kurczenie drogą do światowego prymatu w zakresie technologii półprzewodnikowej 2 nm

Badania i rozwój dotyczące półprzewodników ciągle koncentrują się na przekroczeniu granic, jakie występują w najnowszej technologii wytwarzania układów scalonych, aby zapewnić wzrost możliwości obliczeniowych, na które zapotrzebowanie rośnie eksponencjalnie. Finansowany ze środków UE projekt IT2 ma służyć opracowaniu technologii litograficznej nowej generacji, która wykorzystywałaby promieniowanie z zakresu skrajnego ultrafioletu, i zbadaniu możliwości, jakie dają nowatorskie struktury trójwymiarowe. Ostatecznym celem badań jest zwiększenie liczby tranzystorów, które można umieścić w jednym układzie scalonym. Naukowcy chcą osiągnąć różnicę porównywalną z wybudowaniem na tej samej działce wieżowca zamiast domku jednorodzinnego. Wynikiem prowadzonych prac będzie powstanie układów scalonych, które staną się sercem sztucznej inteligencji, umożliwią przetwarzanie danych Big Data, prowadzenie komunikacji mobilnej/5G oraz znajdą zastosowanie w innych obszarach prowadzących do cyfryzacji Europy. W ten sposób projekt przyczyni się do zgłębiania wiedzy i tworzenia infrastruktury, dzięki którym Europa znajdzie się w światowej czołówce producentów elementów półprzewodnikowych w technologii CMOS w zakresie 2 nm i umożliwi zajęcie Europie nadrzędnej pozycji w łańcuchu wartości funkcjonującym w elektronice.

Cel

The overall objective of the IT2 project is to explore, develop and demonstrate technology options that are needed to realize 2nm CMOS logic technology extending the scaled Semiconductor technology roadmap to the next node in accordance to Moore’s law. These activities cover creation of Lithography equipment, new Processes & Modules and Metrology tools capable to create and deal with new 2nm node 3D structures, defect analysis, overlay and features.
The topics addressed by the program relate to the ECSEL MASP 2019 Chapter 10; “Process Technology, Equipment, Materials and Manufacturing for electronic components and systems”, with emphasis on the following major challenge “the Extension of world leadership in Semiconductor Equipment, Materials and Manufacturing solutions” and “Developing Technology for heterogeneous System-on-Chip (SoC) Integration” of the ECSEL JU Annual Work Plan 2019.
The relation of the IT2 project to world leadership regards the extension of the scaled semiconductor technology roadmaps and thereby maintain competence in advanced More Moore technology in Europe to support leading edge manufacturing.
The relation of the IT2 project to the Developing Technology for heterogeneous System-on-chip Integration comes from activities regarding “System Scaling” in which technology is developed that enables wafer-to-wafer bonding creating 3D heterogeneous solutions with the aim to resolve performance limitations in power and data congestion.
In regard to the annual work plan 2019, the IT2 project support the ECSEL JU objectives by contribution to the development of a strong and competitive Electronic Components and Systems (ECS) by involving many of the equipment and tool developers like; ASML, Zeiss, Thermo Fisher, Applied Materials, Nova, KLA along the value chain and knowledge institutes such as ARCNL, imec, PTB, TNO and TU/e. And by stimulating a dynamic ecosystem through through the involvement of SMEs like IBS, Recif, Reden and Unity.

Zaproszenie do składania wniosków

H2020-ECSEL-2019-1-IA-two-stage

Zobacz inne projekty w ramach tego zaproszenia

Szczegółowe działanie

H2020-ECSEL-2019-1-IA

System finansowania

IA - Innovation action

Koordynator

ASML NETHERLANDS B.V.
Wkład UE netto
€ 3 000 000,00
Adres
DE RUN 6501
5504DR Veldhoven
Niderlandy

Zobacz na mapie

Region
Zuid-Nederland Noord-Brabant Zuidoost-Noord-Brabant
Rodzaj działalności
Private for-profit entities (excluding Higher or Secondary Education Establishments)
Linki
Koszt całkowity
€ 15 434 132,50

Uczestnicy (34)