Opis projektu
Zaawansowane nanowzorcowanie dzięki selektywnemu osadzaniu powierzchniowemu
Nanowzorcowanie stanowi obecnie fundament i przyszłość technologii półprzewodników, pozwalając na miniaturyzację procesu technologicznego poniżej 7 nm, a także osiąganie wyższych prędkości, zwiększanie gęstości tranzystorów i wydajności obliczeniowej. Tak niewielkie wymiary sprawiają jednak, że proces nanowzorcowania wiąże się z wieloma problemami wymagającymi rozwiązania – między innymi fotorezystancją w przypadku litografii w skrajnym ultrafiolecie, niską wydajnością procesu i jego wysokimi kosztami, negatywnym oddziaływaniem na środowisko, dużym stopniem złożoności oraz błędami nakładania. To jednak wymaga zastosowania innowacyjnych rozwiązań. Uczestnicy finansowanego przez Unię Europejską projektu ADMAIR zajmą się największymi wyzwaniami związanymi z materiałami i procesami wykorzystującymi skrajny ultrafiolet w skali wynoszącej poniżej 10 nm. W tym celu zamierzają wykorzystać oddolną metodę nanowzorcowania, określaną mianem selektywnego osadzania powierzchniowego. Zrealizowane w ramach projektu prace pozwolą na rozwój dziedziny nanowzorcowania.
Cel
Nanopatterning is the core of today’s and future semiconductor technology as it drives the downscaling of the devices below the 7 nm node, enabling higher speed, density of transistors and computing performance. In addition, nanofabricated three-dimensional patterned structures are used in devices for photonics, biotechnology and other forms of nanotechnology.[1]Beyond the 10nm node, extreme ultraviolet lithography (EUVL) with a light source of 13.5 nm, will be applied.[2],[3] Associated with nano-patterning at these dimensions, there is a long list of challenges: i) EUVL photoresists (PR) and mask infrastructure and control of the created nanoscale patterns; ii) throughput and process cost; iii) environmental footprint as it is based on litho-etch subtractive processes; iv) high complexity thus decreasing fabrication reliability; v) overlay errors and defectivity. Therefore, innovative solutions are required. Area selective deposition (ASD) offers the potential to relax downstream processing steps by enabling self-aligned processes and bottom-up lithography.
The main goal of this MSCA proposal Area-selective Deposition-enabled ultiMAte extensIon of lithogRaphy (ADMAIR) is to overcome the potentially show-stopping challenges associated with EUV materials and processes at the sub-10nm scale by an additive bottom-up concept. This will be enabled by interdisciplinary joint development projects involving material suppliers and lithography stakeholders, which is a unique advantage of IMEC and will complement the expertise of the candidate in material science and characterization. Ultimately, valuable professional development opportunities for the MSCA candidate and know-how for the host will be achieved.
Dziedzina nauki (EuroSciVoc)
Klasyfikacja projektów w serwisie CORDIS opiera się na wielojęzycznej taksonomii EuroSciVoc, obejmującej wszystkie dziedziny nauki, w oparciu o półautomatyczny proces bazujący na technikach przetwarzania języka naturalnego. Więcej informacji: Europejski Słownik Naukowy.
Klasyfikacja projektów w serwisie CORDIS opiera się na wielojęzycznej taksonomii EuroSciVoc, obejmującej wszystkie dziedziny nauki, w oparciu o półautomatyczny proces bazujący na technikach przetwarzania języka naturalnego. Więcej informacji: Europejski Słownik Naukowy.
- inżynieria i technologia nanotechnologia
- nauki przyrodnicze nauki fizyczne elektromagnetyzm i elektronika urządzenie półprzewodnikowe
Aby użyć tej funkcji, musisz się zalogować lub zarejestrować
Przepraszamy… podczas wykonywania operacji wystąpił nieoczekiwany błąd.
Wymagane uwierzytelnienie. Powodem może być wygaśnięcie sesji.
Dziękujemy za przesłanie opinii. Wkrótce otrzymasz wiadomość e-mail z potwierdzeniem zgłoszenia. W przypadku wybrania opcji otrzymywania powiadomień o statusie zgłoszenia, skontaktujemy się również gdy status ulegnie zmianie.
Program(-y)
Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.
Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.
-
H2020-EU.1.3. - EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions
GŁÓWNY PROGRAM
Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego programu -
H2020-EU.1.3.2. - Nurturing excellence by means of cross-border and cross-sector mobility
Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego programu
Temat(-y)
Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.
Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.
System finansowania
Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.
Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.
MSCA-IF - Marie Skłodowska-Curie Individual Fellowships (IF)
Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego programu finansowania
Zaproszenie do składania wniosków
Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.
Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.
(odnośnik otworzy się w nowym oknie) H2020-MSCA-IF-2019
Wyświetl wszystkie projekty finansowane w ramach tego zaproszeniaKoordynator
Kwota netto dofinansowania ze środków Unii Europejskiej. Suma środków otrzymanych przez uczestnika, pomniejszona o kwotę unijnego dofinansowania przekazanego powiązanym podmiotom zewnętrznym. Uwzględnia podział unijnego dofinansowania pomiędzy bezpośrednich beneficjentów projektu i pozostałych uczestników, w tym podmioty zewnętrzne.
3001 Leuven
Belgia
Ogół kosztów poniesionych przez organizację w związku z uczestnictwem w projekcie. Obejmuje koszty bezpośrednie i pośrednie. Kwota stanowi część całkowitego budżetu projektu.