Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski polski
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS
Zawartość zarchiwizowana w dniu 2024-05-15

SiGe hetero MOS- and MOSFET's for ultimate scaling towards sub 100 nanometer

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Wyniki nadające się do wykorzystania

Virtual substrates with thin (sub 100nm) SiGe strain relaxed buffers containing 35% and 50%Ge for n-MOSFET's were elaborated. Using very low temperature growth stage and Sb surfactants, high relaxation degrees and smooth surface were achieved. Strain relaxed buffers were characterised by atomic force microscopy, X-ray diffraction, Raman spectroscopy, SIMS, optical microscopy with Nomarski contrast before and after delicate chemical etching, and TEM. The influence of layer composition and growth conditions on the degree of relaxation, surface morphology and defect formation was studied.

Wyszukiwanie danych OpenAIRE...

Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd

Brak wyników

Moja broszura 0 0