Skip to main content
Przejdź do strony domowej Komisji Europejskiej (odnośnik otworzy się w nowym oknie)
polski pl
CORDIS - Wyniki badań wspieranych przez UE
CORDIS
Zawartość zarchiwizowana w dniu 2024-05-14

Nanopotentiometry: a tool for submicron device development and analysis

Cel

In this project the development of a method is proposed which characterises the electric operation of a fully operational device by determining the potential distribution inside the structure. The latter not only gives a direct correlation with the predictions from a device simulator but, as the potential distributions are closely linked to the dopant distributions, determination of the potential distributions will also lead to the identification of dopant distributions. The result of this work will be a method which greatly facilitates process and device development and sustains failure analysis for the next generations of Si-technology.

Submicron device development and fabrication hinges on the tight control of dopant incorporation and (re)distribution during the whole fabrication process. Facing the increasing costs for processing, extensive usage of process and device simulation programs (TCAD) has become a standard in technology development. However since advanced processes contain numerous less well characterised processing steps (like short time anneals, transient diffusion, stress induced diffusion, 2D-diffusion...) models are not yet completely predictive. Calibration of TCAD-tools and further model development are therefore essential activities for all semiconductor companies involved in deep submicron technology. An important restriction in the successful application of this strategy is the availability of suitable characterisation methods. With decreasing device dimensions the requirements posed on the analysis tools have increased from moderate requirements on 1D-depth resolution and sensitivity applied to simple test structures to very stringent requests related to 2D-resolution (nm!), quantification accuracy (2-5 %) and the capability to probe directly on devices. Concurrent with the TCAD-needs are the demands from failure analysis for high spatial resolution analysis of devices.

Scanning probe technology already has gained wide access in the semiconductor fabrication particularly for surface roughness (with sub-nm sensitivity) and dimensional metrology. The extension from a pure topographical measurement towards a more functional analysis (carrier or potential profiling) by the (additional) acquisition of a relevant electrical signal might lead to a method satisfying the TCAD- and failure analysis needs in terms of the required 2D-resolution, electrical information and applicability to devices.

Dziedzina nauki (EuroSciVoc)

Klasyfikacja projektów w serwisie CORDIS opiera się na wielojęzycznej taksonomii EuroSciVoc, obejmującej wszystkie dziedziny nauki, w oparciu o półautomatyczny proces bazujący na technikach przetwarzania języka naturalnego. Więcej informacji: Europejski Słownik Naukowy.

Aby użyć tej funkcji, musisz się zalogować lub zarejestrować

Słowa kluczowe

Słowa kluczowe dotyczące projektu wybrane przez koordynatora projektu. Nie należy mylić ich z pojęciami z taksonomii EuroSciVoc dotyczącymi dziedzin nauki.

Program(-y)

Wieloletnie programy finansowania, które określają priorytety Unii Europejskiej w obszarach badań naukowych i innowacji.

Temat(-y)

Zaproszenia do składania wniosków dzielą się na tematy. Każdy temat określa wybrany obszar lub wybrane zagadnienie, których powinny dotyczyć wnioski składane przez wnioskodawców. Opis tematu obejmuje jego szczegółowy zakres i oczekiwane oddziaływanie finansowanego projektu.

Zaproszenie do składania wniosków

Procedura zapraszania wnioskodawców do składania wniosków projektowych w celu uzyskania finansowania ze środków Unii Europejskiej.

Brak dostępnych danych

System finansowania

Program finansowania (lub „rodzaj działania”) realizowany w ramach programu o wspólnych cechach. Określa zakres finansowania, stawkę zwrotu kosztów, szczegółowe kryteria oceny kwalifikowalności kosztów w celu ich finansowania oraz stosowanie uproszczonych form rozliczania kosztów, takich jak rozliczanie ryczałtowe.

ACM - Preparatory, accompanying and support measures

Koordynator

Interuniversity Microelectronics Centre
Wkład UE
Brak danych
Adres
Kapeldreef 75
3001 Leuven
Belgia

Zobacz na mapie

Koszt całkowity

Ogół kosztów poniesionych przez organizację w związku z uczestnictwem w projekcie. Obejmuje koszty bezpośrednie i pośrednie. Kwota stanowi część całkowitego budżetu projektu.

Brak danych
Moja broszura 0 0