Actinic photoemission spectroscopy of litho materials using a table-top ultrafast EUV source
(odnośnik otworzy się w nowym oknie)
Autorzy:
D. P. Singh, K. M. Dorney, F. Holzmeier, E. W. Larsen, L. Galleni, C. Mokhtarzadeh, M. J. van Setten, T. Conard, J. S. Petersen, P. A. W. van der Heide
Opublikowane w:
Proc. SPIE 12955, Metrology, Inspection, and Process Control XXXVIII, Numer 12955, 2024, 2024, Strona(/y) 1295504
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.3010751
Actinic inspection of the EUV optical parameters of lithographic materials with lab-based radiometry and reflectometry
(odnośnik otworzy się w nowym oknie)
Autorzy:
Kevin M. Dorney, Nicola N. Kissoon, Fabian Holzmeier, Esben W. Larsen, Dhirendra P. Singh, Shikhar Arvind, Sayantani Santra, Roberto Fallica, Igor Makhotkin, Vicky Philipsen, Stefan De Gendt, Claudia Fleischmann, Paul A. W. van der Heide, John S. Petersen
Opublikowane w:
Proceedings of SPIE, Volume 12494, Optical and EUV Nanolithography XXXVI, Numer 12494, 2023, 2023, Strona(/y) 1249407
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2658359