Actinic inspection of the EUV optical parameters of lithographic materials with lab-based radiometry and reflectometry
(odnośnik otworzy się w nowym oknie)
Autorzy:
Kevin M. Dorney, Nicola N. Kissoon, Fabian Holzmeier, Esben W. Larsen, Dhirendra P. Singh, Shikhar Arvind, Sayantani Santra, Roberto Fallica, Igor Makhotkin, Vicky Philipsen, Stefan De Gendt, Claudia Fleischmann, Paul A. W. van der Heide, John S. Petersen
Opublikowane w:
Proceedings of SPIE, Volume 12494, Optical and EUV Nanolithography XXXVI, Numer 12494, 2023, 2023, Strona(/y) 1249407
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2658359
A scientific framework for establishing ultrafast molecular dynamic research in imec's AttoLab
(odnośnik otworzy się w nowym oknie)
Autorzy:
Laura Galleni, Faegheh S. Sajjadian, Theirry Conard, Ivan Pollentier, Kevin M. Dorney, Fabian Holzmeier, Esben Witting Larsen, Daniel Escudero, Geoffrey Pourtois, Michiel J. van Setten, Paul van der Heide, John S. Petersen
Opublikowane w:
Proceedings of SPIE, Volume 12498, Advances in Patterning Materials and Processes XL, Numer 124980W, 2023, 2023, Strona(/y) 124980W
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2660047