Publikacje
Autorzy:
Andreas Erdmann, Hazem Mesilhy, Peter Evanschitzky, Vicky Philipsen, Frank Timmermans, Markus Bauer
Opublikowane w:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, Numer 19/04, 2020, ISSN 1932-5150
Wydawca:
S P I E - International Society for Optical Engineering
DOI:
10.1117/1.jmm.19.4.041001
Autorzy:
Hugh T. Philipp, Mark W. Tate, Katherine S. Shanks, Luigi Mele, Maurice Peemen, Pleun Dona, Reinout Hartong, Gerard van Veen, Yu-Tsun Shao, Zhen Chen, Julia Thom-Levy, David A. Muller, Sol M. Gruner
Opublikowane w:
Microscopy and Microanalysis, Numer Volume 28, Numer 2, March 2022, 2022, ISSN 1431-9276
Wydawca:
Cambridge University Press
DOI:
10.1017/s1431927622000174
Autorzy:
Fabrizio Rovaris, Marvin H. Zoellner, Peter Zaumseil, Anna Marzegalli, Luciana Di Gaspare, Monica De Seta, Thomas Schroeder, Peter Storck, Georg Schwalb, Giovanni Capellini, and Francesco Montalenti
Opublikowane w:
PHYSICAL REVIEW B, Numer Phys. Rev. B 100, 085307, 2019, ISSN 2469-9969
Wydawca:
American Physical Society
DOI:
10.1103/physrevb.100.085307
Autorzy:
L. Becker, P. Storck, T. Schulz, M. H. Zoellner, L. Di Gaspare, F. Rovaris, A. Marzegalli, F. Montalenti, M. De Seta, G. Capellini, G. Schwalb, T. Schroeder, M. Albrecht
Opublikowane w:
Journal of Applied Physics, Numer Journal of Applied Physics 128, 215305 (2020), 2020, ISSN 0021-8979
Wydawca:
American Institute of Physics
DOI:
10.1063/5.0032454
Autorzy:
Youssef Drissi, Werner Gillijns, Jae Uk Lee, Ryan Ryoung han Kim, Ahmed Hamed Fatehy, Rehab K. Ali, Rajiv Sejpal, Germain Fenger, James Word
Opublikowane w:
Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XIII, 2019, Strona(/y) 30, ISBN 9781510625723
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2517051
Autorzy:
Jae Uk Lee, Ryoung-han Kim, David Abercrombie, Rehab Kotb Ali, Ahmed Hamed-Fatehy
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
EDN Network
Autorzy:
Rik Jonckheere, Chien-Ching Wu, Veronique de Rooij-Lohmann, Dorus Elstgeest, Henk Lensen, Philipp Hoenicke, Michael Kolbe, Victor Soltwisch, Claudia Zech, Frank Scholze, Remko Aubert, Vineet Vijayakrishnan Nair, Eric Hendrickx
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet Lithography 2020, 2020, Strona(/y) 28, ISBN 9781510638433
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2573125
Autorzy:
Chih-I Wei, Stewart Wu, Yunfei Deng, Gurdaman Khaira, Ir Kusnadi, Germain Fenger, Seulki Kang, Yosuke Okamoto, Kotaro Maruyama, Yuichiro Yamazaki, Sayantan Das, Sandip Halder, Werner Gillijns, Gian Lorusso
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV, 2021, Strona(/y) 32, ISBN 9781510640566
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2583837
Autorzy:
Peter van der Walle, Jetske K. Stortelder, Chien-Ching Wu, Henk Lensen, Norbert B. Koster
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI, 2020, Strona(/y) 66, ISBN 9781510634145
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2552011
Autorzy:
Chang-Nam Ahn, Dong-Seok Nam, Nakgeuon Seong, Anthony Yen
Opublikowane w:
SPIE Advanced Lithography, Numer Proceedings Volume 11609, Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII; 116090D (2021), 2021
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2583462
Autorzy:
Rehab Kotb Ali, Ahmed Hamed Fatehy, James Word
Opublikowane w:
Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability XIV, 2020, Strona(/y) 33, ISBN 9781510634244
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2552091
Autorzy:
Jae Uk Lee, Ryoung-han Kim, David Abercrombie, Rehab Kotb Ali, Ahmed Hamed-Fatehy
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
EDN Network
Autorzy:
Azat Latypov, Gurdaman Khaira, Germain L. Fenger, John L. Sturtevant, Chih-I Wei, Peter De Bisschop
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI, 2020, Strona(/y) 17, ISBN 9781510634145
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2551965
Autorzy:
Claire van Lare, Frank Timmermans, Jo Finders, Olena Romanets, Cheuk-Wah Man, Paul van Adrichem, Yohei Ikebe, Takeshi Aizawa, Takahiro Onoue
Opublikowane w:
SPIE Advanced Lithography, Numer Proceedings Volume 11609, Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII; 116090A (2021), 2021
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2584725
Autorzy:
Meiyi Wu, Devesh Thakare, Jean-François de Marneffe, Patrick Jaenen, Laurent Souriau, Karl Opsomer, Jean-Philippe Soulié, Andreas Erdmann, Hazem Mesilhy, Philipp Naujok, Markus Foltin, Victor Soltwisch, Qais Saadeh, Vicky Philipsen
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet Lithography 2020, 2020, Strona(/y) 2, ISBN 9781510638433
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2572114
Autorzy:
Lars Wischmeier, Paul Gräupner, Peter Kürz, Winfried Kaiser, Jan Van Schoot, Jörg Mallmann, Joost de Pee, Judon Stoeldraijer
Opublikowane w:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI, 2020, Strona(/y) 4, ISBN 9781510634145
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2543308
Autorzy:
Jan van Schoot, Eelco van Setten, Ruben Maas, Kars Troost, Jo Finders, Sjoerd Lok, Rudy Peeters, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
EUVL Workshop 2020
Autorzy:
Heiko Feldmann, Paul Gräupner, Peter Kürz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
ESSCIRC/ESSDERC 2019, Cracow, Poland
Autorzy:
Chih-I Wei, Rajiv Sejpal, Yunfei Deng, Ir Kusnadi, Germain Fenger, Masahiro Oya, Yosuke Okamoto, Kotaro Maruyama, Yuichiro Yamazaki, Sayantan Das, Sandip Halder, Werner Gillijns
Opublikowane w:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIV, 2020, Strona(/y) 2, ISBN 9781510634183
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2554527
Autorzy:
] Erdmann, A., Xu, D., Evanschitzky, P., Philipsen, V., Luong, V., Hendrickx, E.
Opublikowane w:
2017
Wydawca:
Advanced Optical Technologies 6
Autorzy:
Jan van Schoot, Sjoerd Lok, Eelco van Setten, Ruben Maas, Kars Troost, Rudy Peeters, Jo Finders, Judon Stoeldraijer, Jos Benschop, Paul Graeupner, Peter Kuerz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
SPIE
Autorzy:
Frédéric Lazzarino, Nihar Mohanty, Yannick Feurprier, Lior Huli, Vinh Luong, Marc Demand, Stefan Decoster, Victor Vega Gonzalez, Julien Ryckaert, Ryan Ryoung Han Kim, Arindam Mallik, Philippe Leray, Chris Wilson, Jürgen Boemmels, Kaushik Kumar, Kathleen Nafus, Anton deVilliers, Jeffrey Smith, Carlos Fonseca, Julie Bannister, Steven Scheer, Zsolt Tokei, Daniele Piumi, Kathy Barla
Opublikowane w:
Advanced Etch Technology for Nanopatterning VI, 2017, Strona(/y) 1014908
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2258028
Autorzy:
Jetske Stortelder, Robert P. Ebeling, Corné Rijnsent, Michel van Putten, Veronique de Rooij-Lohmann, Maximilian Smit, Arnold J. Storm, Norbert Koster, Henk A. Lensen, Vicky Philipsen, Karl Opsomer, Devesh Thakare, Torsten Feigl, Philipp Naujok
Opublikowane w:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2021, 2021, Strona(/y) 19, ISBN 9781510645530
Wydawca:
SPIE
DOI:
10.1117/12.2600928
Autorzy:
BY JAE UK LEE, RYOUNG HAN KIM, DAVID ABERCROMBIE, AND REHAB KOTB ALI
Opublikowane w:
2021
Wydawca:
EDN.com
Autorzy:
Lars Wischmeier
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
ESSCIRC/ESSDERC 2020, Dresden, Germany
Autorzy:
Paul Graeupner
Opublikowane w:
2021
Wydawca:
ESSCIRC/ESSDERC 2021, Grenoble, France
Autorzy:
Jae Uk Lee, Ryoung-han Kim, David Abercrombie, Rehab Kotb Ali, Ahmed Hamed-Fatehy
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
EDN.com
Autorzy:
Jae Uk Lee, Apoorva Oak, Ryoung Han Kim, David Abercrombie, Rehab Kotb Ali, Ahmed Hamed-Fatehy
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
Siemens
Autorzy:
Bartosz Bilski, Heiko Feldmann, Paul Gräupner, Peter Kürz, Winfried Kaiser
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
ESSCIRC/ESSDERC 2019, Cracow, Poland
Autorzy:
Winfried Kaiser
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
VLSI-TSA 2019
Autorzy:
Sascha Migura
Opublikowane w:
2019
Wydawca:
EUVL Workshop
Autorzy:
Jae Uk Lee, David Abercrombie, Rehab Kotb Ali
Opublikowane w:
2020
Wydawca:
Siemens
Autorzy:
Philipsen, V., Luong, K.V., Opsomer, K., Souriau, L., Rip, J., Detavernier, C., Erdmann, A., Evanschitzky, P., Laubis, C., Hönicke, Ph., Soltwisch, V., Hendrickx, E.
Opublikowane w:
SPIE DIGITAL LIBRARY, 2019
Wydawca:
SPIE
Autorzy:
Jerome Mitard, Luka Kljucar, Nouredine Rassoul, Harold F. W. Dekkers, Michiel van Setten, Adrian Chasin, Geoffrey Pourtois, Attilio Belmonte, Romain Delhougne, Gabriele Luca Donadio, Ludovic Goux, Manoj Nag, Chris Wilson, Zsolt Tokei, Jose Ignacio del agua Borniquel, Soeren Steudel and Gouri Sankar Kar
Opublikowane w:
ECS Transactions, Numer 98 (7), 2020, Strona(/y) 205-217
Wydawca:
The Electrochemical Society
Autorzy:
Fan Jiang, Alexander Tritchkov, Alex Wei, Srividya Jayaram, Yuyang Sun, Xima Zhang, and James Word
Opublikowane w:
SPIE DIGITAL LIBRARY, 2019
Wydawca:
SPIE
Autorzy:
Philipsen, V., Luong, K.V., Souriau, L., Erdmann, A., Evanschitzky, P., van de Kruijs, R.W. E., Edrisi, A., Scholze, F., Laubis, C., Irmscher, M., Naasz, S., Reuter, C., Hendrickx, E.
Opublikowane w:
Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 16, 2017
Wydawca:
Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 16
Prawa własności intelektualnej
Numer wniosku/publikacji:
10
2020201041
Data:
2020-01-29
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
20
20052250
Data:
2020-01-30
Numer wniosku/publikacji:
20
19076001
Data:
2019-09-26
Numer wniosku/publikacji:
10
2019215990
Data:
2019-10-17
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
CARL ZEISS SMT GMBH
Numer wniosku/publikacji:
20
19063706
Data:
2019-05-28
Numer wniosku/publikacji:
20
19075125
Data:
2019-09-19
Numer wniosku/publikacji:
21
192493
Data:
2021-08-23
Wnioskodawca/wnioskodawcy:
FEI ELECTRON OPTICS BV
Wyszukiwanie danych OpenAIRE...
Podczas wyszukiwania danych OpenAIRE wystąpił błąd
Brak wyników