Opis projektu
Charakterystyka urządzeń nanoelektronicznych generowana w czasie rzeczywistym
Stabilny cykl produkcyjny innowacyjnych urządzeń nanoelektronicznych wymaga ciągłej kontroli procesu prowadzonej w czasie rzeczywistym. Nie dysponujemy jeszcze narzędziami pomiarowymi, które umożliwiłyby tworzenie dokładnych charakterystyk w skali, o której mowa, czyli od jednego do stu nanometrów. Najnowsze techniki spektroskopowe (spektroskopie ramanowska, w podczerwieni czy fotoluminescencyjna), które pozwalają tworzy mapy obserwabli fizycznych w skali nano, nie mają wystarczającej rozdzielczości, by przeprowadzić szczegółową charakterystykę nanourządzeń. Finansowany ze środków UE projekt CHALLENGES ma zarówno usprawnić rozdzielczość przestrzenną tych technik, jak i zmniejszyć stopień zaszumienia sygnału w nich uzyskiwanego. W tym celu zostanie wykorzystanie optyczne zjawisko zlokalizowanego rezonansu plazmonów powierzchniowych. Techniki spektroskopowe wzmacniane plazmonowo umożliwią stabilne wytwarzanie dobrze działających urządzeń nanoelektronicznych. Wynikiem prac nad projektem będzie wprowadzenie nowych technologii w trzech obszarach: półprzewodników, fotowoltaiki krzemowej i materiałów dwuwymiarowych.
Cel
A cost-efficient production of reliable, innovative materials and devices like advanced electronics products (<65 nm strained channel transistors, CMOS image sensors) requires nanoscale real-time in-line control, nowadays not available, during manufacturing. State-of-the-art techniques capable to map physical observables at the nanoscale compatible with in-line operations, like Raman, InfraRed (IR), Photoluminescence (PL) spectroscopy, do not have typically enough resolution for the detailed characterization of nano-scaled devices. Signal amplification by localized plasmon resonance at a sharp tip can give the opportunity of improving both the spatial resolution and the signal/noise ratio. CHALLENGES main objective is to develop multipurpose nano-optical techniques and metrological protocols for real-time characterization, using plasmonic enhanced Raman, IR and PL signals, capable to enable an increase of speed, sensitivity, spectral range with full cleanroom compatibility within different production environments, to improve devices performance, quality and reliability. CHALLENGES will focus on development and demonstration of such technology on three relevant application contexts: Semiconductor Industry, Si Photovoltaics and 2D Materials. Overall, the envisaged results are expected to be applicable to many other industrial fields in which the materials control at the nanoscale is required, spanning from those others electronics-related (DRAM, non-volatile memory, MEMS) to those one materials science (additive manufacturing, nanocoatings) and life sciences (implants, softmatter apps) related. CHALLENGES is coordinated by a large silicon foundry company and it is strongly driven by industrial and applicative needs. The Consortium includes renowned EU research labs with top-class facilities and capacities, industry leading enterprises and innovative SMEs with a worldwide collaboration network that will boost the international dimension and impact of the project.
Dziedzina nauki
- engineering and technologynanotechnologynano-materialstwo-dimensional nanostructures
- engineering and technologyelectrical engineering, electronic engineering, information engineeringelectronic engineeringsensors
- engineering and technologymechanical engineeringmanufacturing engineeringadditive manufacturing
- medical and health sciencesmedical biotechnologyimplants
- engineering and technologyenvironmental engineeringenergy and fuelsrenewable energysolar energyphotovoltaic
Słowa kluczowe
Program(-y)
Zaproszenie do składania wniosków
Zobacz inne projekty w ramach tego zaproszeniaSzczegółowe działanie
H2020-NMBP-TO-IND-2019
System finansowania
RIA - Research and Innovation actionKoordynator
00185 Roma
Włochy