Opis projektu
Nowe podejście do technologii nanowzorcowania
Nanowzorcowanie materiałów staje się technologią kluczową dla opracowywania wielu rozwiązań i urządzeń, zwłaszcza tych charakteryzujących się największą wydajnością. Biorąc pod uwagę niedawne wprowadzenie nowego 10-nm procesu technologicznego przez firmę Intel, konieczne staje się opracowanie nowych technologii selektywnego osadzania materiałów w nanoskali. Selektywne osadzanie może stanowić prawdziwy przełom, umożliwiający opracowanie nowych procesów technologicznych produkcji półprzewodników. Wiedzą o tym uczestnicy finansowanego przez Unię Europejską projektu NADIA, którzy zamierzają zaprezentować technikę kontroli przestrzennej osadzanej cienkiej warstwy. W tym celu zamierzają wykorzystać metodę osadzania warstw atomowych w roli techniki osadzania selektywnego. Takie rozwiązanie może przynieść szereg korzyści producentom urządzeń oraz pomóc w rozwiązaniu problemów związanych z integracją w procesach technologicznych poniżej 10 nm.
Cel
The need for area selective deposition (ASD): Nanoscale patterning of materials is becoming a key issue for a broad range of devices, especially
in the back end of line (BEOL). With the introduction of Intel’s latest 10nm node earlier this year, it is vital to develop new ways to master selective
deposition of materials at the nanoscale, preferably without the use of lithographic and etching steps, as they can be time-consuming, expensive
and mainly subtractive processes. Novel concepts are thus needed to enhance local deposition while decreasing the use of expensive
technological steps. Selective deposition is expected to lead to a paradigm shift in patterning at future semiconductor technology nodes. Area
Selective Deposition (ASD) by ALD brings several potential benefits for future device processing and provides a route to overcome process
integration challenges at the sub 10 nm nodes, i.e. overlay and lithographic misalignment related issues both in the front end of line (FEOL) and
back end of line (BEOL) schemes. Essentially, what ASD gives is spatial control over a deposited thin film. This is the objective of the innovative
NADIA proposal which is now a very relevant topic.
Dziedzina nauki
Słowa kluczowe
Program(-y)
Temat(-y)
System finansowania
MSCA-IF - Marie Skłodowska-Curie Individual Fellowships (IF)Koordynator
3001 Leuven
Belgia